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项目名称 | 数字微镜空间光刻曝光控制器 | 项目编号 | ****点击查看 |
项目编号 | ****点击查看 | ||
公告发布日期 | 2025/08/26 11:17 | 公告截止日期 | 2025/08/29 11:17 |
公告截止日期 | 2025/08/29 11:17 | ||
采购单位 | ****点击查看 | ||
联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系手机 | 中标后在我参与的项目中查看 |
联系手机 | 中标后在我参与的项目中查看 | ||
采购预算 | 未公开 | 币种 | RMB |
币种 | RMB | ||
是否本地化服务 | 否 | 是否需要踏勘 | 否 |
是否需要踏勘 | 否 | ||
踏勘联系人 | 踏勘联系电话 | ||
踏勘联系电话 | |||
踏勘地点 | 踏勘联系时间 | ||
踏勘联系时间 | |||
送货/施工/服务期限 | 合同签订后 60 天内到货 | ||
送货/施工/服务地址 | ****点击查看市**区 中建智慧谷(**路东)E13-1 **半导****点击查看研究院 | ||
售后服务 | 按行业标准执行 | ||
付款条款 | 国产设备:1.供应商在申请验收前,须先把合同总金额的(0)%作为质保金交到采购人指定账户,并开具合同金额100%发票;2.货到合同指定地点并安装调试验收合格后,凭验收报告在10个工作日内支付合同总金额的(100)%;3.在验收合格之日起的()年后无质量问题,经采购人认可,一次性将合同质保金无息退还供应商。 |
采购内容 | 数量单位 | |||
数字微镜空间光刻曝光控制器 | 1(套) | |||
参考品牌及型号 | 泽攸科技/ZML controller | |||
技术参数要求 | 1、数据传输接口:USB/HDMI 2、帧缓存容量:≥16 GB(支持多图层实时切换) 3、曝光刷新延迟≤50 μs(从指令到微镜稳定) 4、同步触发精度≤100 ns(外部TTL/运动平台同步) 5、支持曝光模式:二进制开关、脉宽调制(PWM)、灰度渐变 6、多区域并行控制:支持分区独立曝光(ROI功能) 7、直线电机驱动控制器(X2) 8、最大曝光面积:支持拼接曝光(单次≥50×50 mm) 9、LED、Z轴电动台及数字微镜器件核心供电板 10、灰度控制精度:±1%(8-bit模式) 11、校准功能:自动畸变校正、光强均匀性补偿 12、上位机控制软件(软件语言:C#),主要功能包含 12.1拼接、套刻辅助:支持交互式套刻指引功能; 12.2显微成像及测量功能:支持显微观察且不引起光刻胶变性,能够进行显微测量; 12.3逐场图像自动对焦功能:图像自动对焦速度快于1.5s; 12.4原位绘图:支持原位绘制光刻图案; 12.5绘图功能:支持阵列、多层图案绘图; 12.6切图功能:支持切图、反色等功能,自定义切图方式,保证光刻精度和效果; |